수직 튜브 퍼니스는 연구 및 산업 분야에서 정밀하고 균일한 열 처리를 위해 설계된 특수 가열 시스템입니다.수직 방향, 맞춤형 구성 및 고급 제어 시스템을 갖추고 있어 제어된 대기, 고온 및 일관된 열 분배가 필요한 공정에 이상적입니다.주요 특징으로는 최대 1800°C의 온도 범위, 내구성 있는 구조, 진공 또는 가스 환경과의 호환성 등이 있으며, 재료 합성 및 화학 기상 증착과 같은 다양한 응용 분야에 적합합니다.
핵심 포인트 설명:
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수직 방향
- 수직으로 설계된 퍼니스는 바닥 공간 사용을 최소화하고 중력을 이용한 시료의 로딩/언로딩을 가능하게 합니다.
- 이 방향은 균일한 가스 분포를 촉진하고 오염 위험을 줄이기 때문에 가스 흐름 또는 증착과 관련된 공정에 특히 유용합니다.
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온도 범위 및 발열체
- 최대 온도 범위는 1200°C~1800°C이며, Kanthal(낮은 범위의 경우), SiC 또는 MoSi2(높은 범위의 경우)와 같은 가열 요소를 통해 달성할 수 있습니다.
- 다중 구역 구성으로 튜브 길이에 따라 정밀한 구배 제어가 가능하며, 이는 결정 성장이나 어닐링과 같은 애플리케이션에 매우 중요합니다.
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균일한 가열 및 열 전달
- 발열체가 튜브를 둘러싸고 있어 열이 균일하게 전달됩니다.이는 반사 단열재를 통해 더욱 향상됩니다.
- 수평형 용광로에 비해 수직형 모델은 대류로 인한 핫스팟이 감소하여 온도 균일성이 더 우수한 경우가 많습니다.
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맞춤형 치수
- 표준 튜브 직경은 50mm~120mm이며, 핫존은 300mm 또는 600mm(900mm까지 확장 가능)입니다.
- 맞춤형 길이와 직경은 다음과 같이 더 큰 샘플 또는 배치 처리에 적합합니다. 대기 레토르트 용광로 제어 환경 열처리를 위한 용광로입니다.
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분위기 제어
- 밀봉된 엔드캡을 통해 진공(최저 10^-5 torr) 또는 가스 환경(예: N₂, Ar)을 지원합니다.
- 가스 혼합 시스템은 산화/환원 연구 또는 CVD에 필수적인 정밀한 대기 조성을 가능하게 합니다.
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내구성 있는 구조
- 스테인리스 스틸 외관과 알루미나 또는 석영 튜브는 수명이 길고 열 스트레스에 대한 저항력을 보장합니다.
- 컴팩트한 벤치탑 디자인으로 견고함을 유지하면서 실험실 워크플로우에 쉽게 통합할 수 있습니다.
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고급 제어 시스템
- 소프트웨어 호환성을 갖춘 프로그래밍 가능한 컨트롤러로 자동 온도 상승, 보류 및 데이터 로깅이 가능합니다.
- PID 튜닝과 같은 기능으로 온도 변동을 최소화합니다(일반적으로 ±1°C).
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응용 분야
- 재료 합성(예: 나노튜브), 열분해 및 반도체 공정에 이상적입니다.
- 수직 방향은 입자 침전이나 기체상 반응을 최소화해야 하는 공정에 유리합니다.
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에너지 효율
- 유도 가열 방식(해당되는 경우)은 튜브와 시료를 직접 가열하여 열 손실을 줄여 에너지 활용도를 향상시킵니다.
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안전 및 호환성
- 퀵 릴리스 메커니즘이 있는 엔드캡으로 시료를 안전하게 취급할 수 있습니다.
- 수냉식 플랜지와 같은 옵션은 고온 작동의 안전성을 향상시킵니다.
이러한 특성으로 인해 수직관로는 고정밀 열 처리를 위한 다목적 도구로 다양한 실험 요구 사항에 대한 적응성과 성능의 균형을 맞출 수 있습니다.
요약 표:
특성 | 세부 정보 |
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방향 | 공간 효율성과 균일한 가스 분포를 위한 수직형 디자인. |
온도 범위 | 1200°C ~ 1800°C, 다중 구역 그라데이션 제어. |
발열체 | 최적의 성능을 위한 칸탈, SiC 또는 MoSi2. |
균일한 가열 | 반사 단열재로 열을 균일하게 분배합니다. |
맞춤형 치수 | 튜브 직경(50mm-120mm) 및 핫존(300mm-900mm). |
대기 제어 | 진공(10^-5 torr) 또는 가스 환경(N₂, Ar)을 지원합니다. |
내구성 있는 구조 | 스테인리스 스틸 외관에 알루미나/쿼츠 튜브를 사용했습니다. |
제어 시스템 | 프로그래밍 가능한 PID 컨트롤러(±1°C 정확도). |
응용 분야 | 재료 합성, CVD, 열분해 및 반도체 공정. |
에너지 효율 | 인덕션 가열 옵션은 열 손실을 줄여줍니다. |
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