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플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 장비는 반도체 연구, 태양 전지 생산 및 나노 기술 응용 분야의 첨단 박막 증착에 필수적입니다. 킨텍은 다양한 고성능 PECVD 시스템을 제공합니다:
품목 번호: KTWB315
품목 번호: KT-RFPE
품목 번호: KT-CTF12
품목 번호: KT-CTF16
품목 번호: KT-PE16
킨텍의 PECVD 장비는 첨단 플라즈마 향상과 정밀한 화학 기상 증착 공정을 결합한 박막 증착 기술의 최첨단을 대표합니다. 당사의 시스템은 최신 반도체 제조, 태양 전지 생산 및 나노 기술 연구의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다.
PECVD는 RF 전력이 플라즈마를 생성하는 진공 챔버에 공정 가스를 도입하여 가스 분자를 반응성 종으로 분해하는 방식으로 작동합니다. 이러한 종은 탁월한 균일성과 제어된 특성을 가진 박막으로 기판에 증착됩니다. 주요 공정 파라미터는 다음과 같습니다:
각 킨텍 PECVD 시스템은 다음을 포함합니다:
당사의 PECVD 시스템은 다양한 재료를 탁월한 품질로 증착합니다:
주요 응용 분야는 다음과 같습니다:
헨켈의 PECVD 시스템은 일관되게 제공합니다:
킨텍의 엔지니어링 팀은 PECVD 여정 전반에 걸쳐 포괄적인 지원을 제공합니다:
당사는 다음과 같은 고유한 연구 요구 사항을 위한 맞춤형 PECVD 솔루션 개발을 전문으로 합니다:
박막 연구 또는 생산을 발전시킬 준비가 되셨나요? 지금 바로 헨켈의 PECVD 전문가에게 연락하여 에 문의하여 구체적인 요구 사항을 논의하고 당사의 솔루션으로 혁신을 가속화할 수 있는 방법을 알아보세요.
즉각적인 도움이 필요하면 기술팀에 전화하거나 자세한 시스템 사양서를 요청하세요. 정밀 박막 증착의 파트너가 되어 드리겠습니다.
우리의 전문 팀이 영업일 기준 1일 이내에 답변을 드릴 것입니다. 언제든지 연락 주시기 바랍니다!
튜브 퍼니스 제어 시스템을 선택하는 것은 공정 반복성, 데이터 무결성 및 연구 신뢰성에 영향을 미치는 전략적 결정입니다.
진공로가 압력을 제어하여 산화를 방지하고 고온에서 파괴적인 화학 반응이 발생할 수 없는 빈 공간을 만드는 방법을 알아보세요.
튜브 퍼니스가 열, 분위기, 시간을 정밀하게 제어하여 재료 변환을 가능하게 하는 방법—반복 가능한 과학의 열쇠입니다.
튜브 퍼니스의 진정한 가치가 단순히 온도가 아니라 반복 가능한 과학을 위한 절대적인 환경 제어에 있다는 것을 알아보세요.
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진공 브레이징은 단순히 공기를 제거하는 것이 아니라, 중요 부품의 절대적인 접합 무결성을 보장하는 능동적인 정화 과정입니다.
고온 실험 실패의 숨겨진 이유를 알아보세요. 공정 문제가 아니라 로 내부의 재료 불일치 때문입니다. 해결 방법을 알아보세요.
진공로는 산화를 방지하고 재료를 탈기하여 완벽한 환경을 조성함으로써 중요 부품의 우수한 강도와 순도를 가능하게 합니다.
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비용, 품질 및 도구, 광학, 양자 기술과 같은 산업 응용 분야에 대한 CVD 다이아몬드 합성 방법(HFCVD, DC 플라즈마 아크 제트, MPCVD)을 비교합니다.
