지식 3구역 분할 튜브 용광로의 일반적인 응용 분야는 무엇입니까?첨단 소재를 위한 정밀 가열
작성자 아바타

기술팀 · Kintek Furnace

업데이트됨 4 days ago

3구역 분할 튜브 용광로의 일반적인 응용 분야는 무엇입니까?첨단 소재를 위한 정밀 가열


3구역 분할 튜브 퍼니스는 정밀한 온도 구배, 확장된 구역에 걸친 균일한 가열 또는 제어된 대기가 필요한 응용 분야를 위해 설계된 다목적 가열 시스템입니다.다중 구역 구성으로 맞춤형 열 프로파일이 가능하므로 재료 과학, 반도체 제조 및 진공 브레이징과 같은 산업 공정에서 없어서는 안 될 필수 요소입니다.이 퍼니스는 특히 연구, 생산 및 특수 열처리와 같이 단일 구역 시스템으로는 필요한 제어나 균일성이 부족한 시나리오에서 탁월한 성능을 발휘합니다.

핵심 포인트 설명:

  1. 정밀한 온도 그라데이션 생성

    • 튜브 길이를 따라 뚜렷한 온도 영역을 유지하여 CVD(화학 기상 증착) 필름 성장을 제어할 수 있습니다.
    • 점진적인 온도 변화가 중요한 결정 성장 및 반도체 공정 지원
    • 단일 실험 설정 내에서 다양한 열 조건에서 재료 테스트를 용이하게 합니다.
  2. 확장된 균일한 가열 구역

    • 동일한 온도로 설정된 여러 개의 구역은 단일 구역 용광로에 비해 더 긴 등온 구간을 생성합니다.
    • 다음과 같은 균일한 열처리 공정에 필수적입니다. (진공 브레이징로) 일정한 온도로 적절한 필러 금속 흐름을 보장합니다.
    • 특정 온도에서 장시간 노출이 필요한 재료의 일괄 처리 수율 향상
  3. 고급 재료 처리

    • 진공 호환 설계로 금속 사출 성형 부품의 소결, 어닐링 및 디바인딩을 지원합니다.
    • 확산 공정 및 산화물 성장을 위한 반도체 제조에 사용
    • 세라믹 소결 및 유리 대 금속 밀봉과 같은 특수 애플리케이션 지원
  4. 산업 규모 애플리케이션

    • 공구 산업:진공 소결을 통한 카바이드 생산
    • 전기 산업:브레이징을 통한 진공 스위칭 챔버 제조
    • 자동차: 고성능 합금의 열처리
    • 광학 제조:레이저 부품을 위한 결정 성장
  5. 사용자 지정 및 제어 기능

    • 다양한 튜브 직경(50-120mm) 및 가열 길이(최대 900mm)로 사용 가능
    • 칸탈, SiC 또는 MoSi2 발열체를 사용한 최대 1800°C 온도 범위
    • 동기화된 열 프로파일을 위한 마스터/슬레이브 구성이 가능한 프로그래밍 가능한 다중 구역 컨트롤러
    • 과열 보호 및 복잡한 열 주기를 위한 정밀한 단계 프로그래밍

이 용광로는 실험실 연구와 산업 생산을 연결하여 섬세한 나노 재료 합성부터 견고한 금속 접합 공정까지 모든 것을 처리할 수 있는 유연성을 제공합니다.제어된 환경(불활성, 환원 또는 진공)을 유지할 수 있기 때문에 산소에 민감한 재료와 고순도 응용 분야에 특히 유용합니다.

요약 표:

애플리케이션 주요 이점
CVD 필름 성장 제어된 증착을 위한 정밀한 온도 구배
진공 브레이징 일관된 필러 금속 흐름을 위한 확장된 균일한 가열 영역
반도체 제조 확산 공정 및 산화물 성장을 위한 다중 구역 제어
세라믹 소결 고순도 재료 처리를 위한 진공 호환 설계
산업 규모의 열처리 카바이드 생산 및 합금 처리를 위한 맞춤형 열 프로파일

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