3구역 분할 튜브 용광로는 다양한 산업 및 실험실 환경을 수용할 수 있는 유연한 전원 공급 옵션을 제공합니다.220V 단상 AC와 415V 3상 AC를 기본으로 선택할 수 있어 다양한 전력 요구 사항과 시설 인프라를 충족할 수 있습니다.이 퍼니스는 다음과 같은 고온 애플리케이션을 위해 설계되었습니다. 화학 기상 증착 반응기 다중 구역 온도 제어 및 강력한 안전 메커니즘과 같은 고급 기능을 갖춘 프로세스입니다.
핵심 포인트 설명:
1. 전원 공급 옵션
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220V 단상 AC:
- 소규모 운영 또는 전기 인프라가 제한된 시설에 이상적입니다.
- 연구실이나 파일럿 규모 생산과 같이 전력 수요가 중간 정도인 애플리케이션에 적합합니다.
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415V 3상 AC:
- 더 높은 전력 입력이 필요한 산업 규모의 작업에 선호됩니다.
- 고온 공정(최대 1800°C) 및 다중 구역 구성에서 안정적인 성능을 보장합니다.
2. 애플리케이션별 기능
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다중 구역 제어:
- 반도체 도핑이나 나노 물질 합성과 같은 공정에 중요한 세 구역에서 독립적인 온도 조절이 가능합니다.
- 마스터/슬레이브 컨트롤러 옵션으로 균일성과 재현성을 최적화합니다.
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커스터마이징:
- 튜브 직경(50-120mm) 및 핫존 길이(300-900mm)는 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다.
- 온도 요구 사항 및 재료 호환성에 따라 발열체(Kanthal, SiC, MoSi2)를 선택합니다.
3. 안전 및 정밀도
- 과열 보호 및 열전대 차단 알람이 작동 안전을 보장합니다.
- 단계별 프로그래밍 기능으로 복잡한 워크플로우를 위한 정밀한 열 프로파일링이 가능합니다.
4. 산업 관련성
- 분할 튜브 퍼니스는 열 구배 제어가 필수적인 반도체 제조, 세라믹 및 재료 과학 분야에서 널리 사용됩니다.
- 3상 전력(415V)은 대규모 화학 증착 원자로와 같은 에너지 집약적인 애플리케이션을 지원합니다. 화학 기상 증착 반응기 시스템.
적절한 전원 공급 장치와 구성을 선택하면 연구 및 산업 규모의 열 처리 모두에서 성능을 최적화할 수 있습니다.
요약 표:
| 기능 | 220V 단상 AC | 415V 3상 AC |
|---|---|---|
| 최적의 용도 | 소규모 실험실, 파일럿 생산 | 산업 규모의 고전력 요구 사항 |
| 온도 범위 | 최대 1800°C | 최대 1800°C |
| 주요 이점 | 인프라 요구 사항 감소 | 안정적인 고전력 성능 |
| 일반적인 애플리케이션 | 연구, 나노 재료 | CVD 반응로, 반도체 도핑 |
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