다음을 포함하여 실험실 용광로에 사용되는 석영 튜브 대기 레토르트 용광로 는 일반적으로 내경이 10mm에서 190mm까지 다양하며 재료 가공, 화학 반응 및 열처리와 같은 다양한 응용 분야에 적합합니다.반도체 취급, 진공 시스템, 보호용 열전대 케이스 등 다양한 용도로 사용됩니다.석영은 내열성과 내화학성이 뛰어나지만, 취성과 극한 조건에 대한 민감성 때문에 실험적 필요에 따라 신중하게 선택해야 합니다.
핵심 사항을 설명합니다:
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표준 크기 범위
- 내경 범위 10mm ~ 190mm 다양한 용광로 설계와 실험 설정을 지원합니다.
- 더 작은 튜브(10-50mm)는 정밀 작업(예: 반도체 웨이퍼 처리)에 이상적이며, 더 큰 직경(100-190mm)은 어닐링 또는 소결과 같은 벌크 재료 처리에 적합합니다.
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재료 특성 및 제한 사항
- 장점:높은 열 안정성(최대 1,200°C), 시각적 모니터링을 위한 투명성, 대부분의 부식성 화학 물질에 대한 내성.
- 도전 과제:취성은 취급 시 주의가 필요하며, 연화점(~1,650°C)에 가까운 온도에 장시간 노출되면 변형이 발생할 수 있습니다.열화를 방지하기 위해 환원성이 강한 환경(예: 수소가 풍부한 환경)은 피하세요.
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일반적인 응용 분야
- 재료 과학:반도체 제조(예: CVD 공정), 세라믹 소결 및 유리 연구.
- 화학 합성:특수 화학 물질 생산을 위한 제어된 반응 환경.
- 산업 용도:진공 시스템의 사이트 글라스, 열전대 보호, 고온 시료용 이송 캐리어.
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특수 구성
- 엔드 캡 & 보트:용광로를 밀봉하거나 공정 중 웨이퍼를 고정하기 위한 맞춤형 석영 부품.
- 로터리 퍼니스:연속 공정에서 균일한 열 분배를 위해 저항 발열체(예: 탄화규소 막대)와 함께 사용합니다.
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선택 고려 사항
- 튜브 크기를 퍼니스 챔버 크기 및 시료 부피와 일치시킵니다.
- 의도한 대기(예: 불활성, 산화)와의 열 및 화학적 호환성을 평가합니다.
- 극한 조건의 경우 알루미나 튜브와 같은 대안은 기계적 강도는 높지만 석영의 광학적 선명도가 부족할 수 있습니다.
쿼츠 튜브는 정밀 엔지니어링과 실험실의 다목적성이 어떻게 만나 나노 규모의 반도체 장치부터 첨단 소재 복합체에 이르기까지 획기적인 발전을 이룰 수 있는지를 잘 보여주는 예시입니다.석영 튜브의 역할 분위기 레토르트 용광로 는 혁신에 필수적인 고온의 제어된 환경을 구현하는 데 있어 그 중요성을 강조합니다.
요약 표:
| 기능 | 세부 정보 |
|---|---|
| 내경 범위 | 10mm ~ 190mm |
| 소형 튜브(10-50mm) | 정밀 작업(예: 반도체 웨이퍼 가공) |
| 대형 튜브(100-190mm) | 벌크 재료 처리(예: 어닐링, 소결) |
| 열 안정성 | 최대 1,200°C, 연화점(~1,650°C) 근처에서 장시간 노출 방지 |
| 주요 애플리케이션 | 반도체 제조, 화학 합성, 진공 시스템 등 |
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