튜브 용광로는 다양한 산업 및 연구 요구에 맞는 표준 및 맞춤형 옵션으로 고온 응용 분야를 위한 다목적 솔루션을 제공합니다.표준 구성에는 고정 튜브 직경(50-120mm)과 핫존 길이(300-600mm)가 포함되며, 사용자 지정은 최대 1800°C까지 치수, 재료 및 온도 범위로 확장됩니다.주요 변형에는 단일 구역, 다중 구역 및 분할 설계가 포함되며, 다음에서 정밀한 분위기 제어를 위한 옵션이 있습니다. 분위기 레토르트 용광로 .표준 설정과 맞춤형 설정 사이의 선택은 열 균일성, 가열 속도, 화학 기상 증착 또는 재료 합성과 같은 애플리케이션별 요구 사항과 같은 요인에 따라 달라집니다.
핵심 사항을 설명합니다:
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표준 구성
- 튜브 직경:일반적으로 50mm, 80mm, 100mm 또는 120mm로 시료 용량과 열 분포의 균형을 맞춥니다.
- 핫 존:표준 길이 300mm 또는 600mm, 더 큰 샘플을 위해 최대 900mm까지 맞춤 확장 가능.
- 온도 범위:200°C, 1500°C, 1800°C의 3단계로 Kanthal(저온용), SiC 또는 MoSi2(극한의 열용)와 같은 발열체를 사용합니다.
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맞춤형 기능
- 치수:고유한 시료 형상을 수용하기 위한 비표준 튜브 직경 또는 핫존 길이.
- 재료:내화학성 또는 열 전도성을 위해 선택된 석영, 알루미나 또는 금속 합금 튜브.
- 전원 및 제어:정밀한 램프 속도 또는 다단계 프로그램을 위한 조정 가능한 전력량 및 고급 PID 컨트롤러.
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난방 기술
- 저항 가열:균일한 열 분배를 위한 표준으로 어닐링과 같은 정상 상태 애플리케이션에 이상적입니다.
- 유도 가열:열이 튜브와 시료에 국한되므로 빠른 가열(열분해에 유리) 및 에너지 효율이 뛰어납니다.
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구역 구성
- 단일 영역:단일 샘플 처리를 위한 제어를 간소화하며, 종종 수냉식 엔드캡과 함께 사용하여 열 구배를 최소화합니다.
- 다중 구역:세그먼트 간 독립적인 온도 제어(예: 구배 연구 또는 순차적 반응).
- 분할 설계:퍼니스를 분해하지 않고도 시료를 쉽게 로딩/언로딩할 수 있습니다.
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분위기 제어
- 가스 입/출구 포트 또는 진공 씰을 통해 달성되는 CVD 또는 소결 같은 애플리케이션에 매우 중요합니다.
- 대기 레토르트 용광로 불활성 또는 반응성 가스 환경을 위한 밀폐형 레토르트 용광로를 통합합니다.
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열 성능
- 균일성: 360° 축에 걸쳐 ±1°C, 최적화된 요소 배치와 단열로 보장됩니다.
- 속도: 인덕션 모델은 가열 속도가 빠르기 때문에(몇 분 대 몇 시간) 시간에 민감한 반응의 공정 시간이 단축됩니다.
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응용 분야 중심 선택
- 재료 합성:정밀한 온도 제어 및 분위기(예: 산화물 방지를 위한 질소)가 필요합니다.
- 열처리:일관된 야금 특성을 위해 균일성이 요구됩니다.
- 수직 대 수평:수직형은 바닥 공간을 절약하고 수평형은 연속 흐름 프로세스에 적합합니다.
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에너지 효율
- 인덕션 모델은 튜브와 시료만 가열하여 낭비를 줄이고, 다중 구역 설계는 작은 시료에 대한 에너지 사용을 최소화합니다.
사용자는 속도, 균일성, 분위기 제어 등 운영상의 필요에 따라 이러한 옵션을 조정하여 특정 워크플로우에 맞게 튜브 퍼니스 성능을 최적화할 수 있습니다.
요약 표:
기능 | 표준 옵션 | 사용자 지정 옵션 |
---|---|---|
튜브 직경 | 50mm, 80mm, 100mm, 120mm | 비표준 크기 |
핫존 길이 | 300mm, 600mm | 최대 900mm |
온도 범위 | 1200°C, 1500°C, 1800°C | 재료별 조정 |
가열 기술 | 저항(균일) | 유도(빠른) |
분위기 제어 | 기본 가스 포트 | 밀폐형 레토르트, 진공 시스템 |
구역 구성 | 단일 구역 | 다중 구역, 분할 설계 |
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