진공 어닐링로는 오염이 없는 환경에서 제어된 열처리를 통해 재료 특성을 향상시켜 광학 재료 가공에서 중요한 역할을 합니다.광섬유의 내부 응력을 제거하고 렌즈의 광 투과율과 균일도를 개선하며 세라믹 및 나노 소재와 같은 첨단 소재의 정밀한 열처리를 가능하게 합니다.실험실 규모의 소형 설계로 최대 1675°C의 온도에서 작동하는 이 시스템은 산업 등급의 성능과 연구 적응성을 결합합니다.PLC 제어 가열/냉각 사이클과 다중 대기 기능이 통합되어 있어 고성능 광학 애플리케이션에 필요한 순도와 구조적 무결성을 달성하는 데 필수적입니다.
핵심 포인트 설명:
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스트레스 완화 및 성능 향상
- 진공 어닐링은 광섬유의 내부 응력을 제거하여 빛의 산란과 감쇠를 줄임으로써 신호 전송 품질을 직접적으로 개선합니다.
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렌즈와 광학 부품의 경우 이 공정을 통해 성능이 향상됩니다:
빛 투과율 미세 구조적 결함을 제거하여
균일성 제어된 재결정화를 통한 균일성
치수 안정성 스트레스 없는 냉각을 통한 치수 안정성
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고온 처리 능력
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최대 온도가 1675°C에 이르는 이 용광로는 가공할 수 있습니다:
- 고융점 광학 세라믹(예: 사파이어, YAG 결정)
- 정밀한 점도 제어가 필요한 특수 유리
- 확산 본딩을 통한 고급 코팅
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최대 온도가 1675°C에 이르는 이 용광로는 가공할 수 있습니다:
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컴팩트한 실험실 솔루션
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500×500×500mm 이하의 챔버 크기가 가능합니다:
공간 효율적인 통합 연구실에서의 공간 효율적인 통합
확장 가능한 테스트 프로토타입부터 생산까지
재료 연구 산업 시스템과 동일한 조건에서
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500×500×500mm 이하의 챔버 크기가 가능합니다:
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오염 제어
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진공 환경(일반적으로 <10^-3 mbar)이 이를 방지합니다:
- 광학 표면을 저하시키는 표면 산화 방지
- 유리 성형 도구의 탄소 고갈
- 반도체 공정 중 불순물 확산
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진공 환경(일반적으로 <10^-3 mbar)이 이를 방지합니다:
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다중 재료 호환성
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이러한 시스템은 전통적인 광학 기술을 뛰어넘어 가공합니다:
- 진공 핫 프레스 기계 IR 창용 복합 재료
- 비선형 광학 결정(LiNbO₃, BBO)
- 가넷 필름과 같은 자기 광학 재료
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이러한 시스템은 전통적인 광학 기술을 뛰어넘어 가공합니다:
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정밀 공정 제어
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PLC 기반 시스템 지원
램프 속도 스트레스 없는 어닐링을 위한 0.1°C/min의 느린 속도
가스 담금질 맞춤형 미세 구조 개발을 위한 기능
다단계 레시피 등급 인덱스 재료용
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PLC 기반 시스템 지원
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새로운 광학 애플리케이션
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개발 촉진
- 입자 성장 제어를 통한 나노 포토닉 구조
- 열팽창이 공학적으로 설계된 메타물질
- 엑시머 레이저 광학용 자외선 투과 세라믹
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개발 촉진
극한의 환경 제어와 프로그래밍 가능한 열 프로파일을 결합하는 이 기술의 능력은 현재의 광학 제조와 차세대 재료 연구 모두에 필수적인 요소입니다.이러한 시스템이 3D 응력 엔지니어링을 통해 어떻게 새로운 광자 설계를 가능하게 할 수 있는지 생각해 보셨나요?
요약 표입니다:
| 주요 이점 | 광학 재료에 미치는 영향 |
|---|---|
| 스트레스 완화 | 광케이블의 신호 전송 개선, 렌즈 투과율 및 균일성 향상 |
| 고온 처리 | 녹는점이 높은 세라믹(예: 사파이어) 및 특수 유리의 가공이 가능합니다. |
| 오염 제어 | 깨끗한 광학 표면을 위해 산화, 탄소 고갈 및 불순물 확산을 방지합니다. |
| 정밀 제어 | 스트레스 없는 어닐링 및 미세 구조 튜닝을 위한 PLC 기반 램프 속도(0.1°C/min의 느린 속도) |
| 다중 재료 호환성 | IR 윈도우 복합재, 비선형 결정(LiNbO₃) 및 자기광학 가넷 필름을 지원합니다. |
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- 오염 없는 어닐링 뛰어난 재료 순도를 위한 오염 없는 어닐링
- 프로그래밍 가능한 열 프로파일 (최대 1675°C)로 스트레스 없이 처리 가능
- 컴팩트하고 확장 가능한 디자인 실험실의 요구 사항에 맞는
차세대 광자 구조를 개발하든 렌즈 성능을 최적화하든, 당사의 맞춤형 진공로 및 CVD/PECVD 시스템 은 고객의 정확한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다.
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