대기 제어 기능이 있는 석영관로용 턴키 시스템에는 정밀한 온도 조절, 효율적인 가스 유량 제어, 강력한 안전 조치를 보장하도록 설계된 몇 가지 주요 구성 요소가 포함되어 있습니다.이 시스템에는 일반적으로 진공 펌프, 디지털 질량 유량 컨트롤러, 배압 조절기가 포함되어 챔버 배기 및 불활성 가스 플러싱을 관리합니다.과열 보호 및 비상 차단과 같은 안전 구성 요소가 통합되어 있으며 쿼츠 튜브의 투명성 덕분에 실시간으로 샘플을 관찰할 수 있습니다.이 시스템은 205~1200mm의 다양한 가열 구역을 통해 물질 합성부터 제약 공정에 이르기까지 다양한 응용 분야에 맞게 맞춤화되었습니다.
핵심 포인트 설명:
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턴키 시스템의 핵심 구성 요소
- 진공 펌프:저소음 펌프로 효율적인 챔버 배기를 보장하며, 이는 제어된 분위기를 조성하는 데 매우 중요합니다.
- 디지털 질량 유량 컨트롤러:다음과 같은 공정에 필수적인 일관된 대기 조건을 위해 가스 유량을 정밀하게 조절합니다. 석영 튜브 용광로 소결 또는 합성
- 배압 레귤레이터:가스 플러싱 주기 동안 안정적인 압력을 유지하여 오염이나 불균일한 반응을 방지합니다.
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대기 제어 메커니즘
- 이 시스템은 산소에 민감한 프로세스를 위한 불활성 가스 플러싱(예: 아르곤 또는 질소)을 지원합니다.
- 여러 번의 배기 플러싱 사이클을 자동화하여 매우 청결한 환경을 구현할 수 있습니다.
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온도 조절
- PID 컨트롤러:어닐링 또는 소성과 같은 애플리케이션에 필수적인 ±1°C 정밀도를 제공합니다.
- 열전대 피드백:실시간으로 난방 구역을 모니터링하여 전력 출력을 동적으로 조정합니다.
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안전 기능
- 과열 보호:한계를 초과하면 가열을 중지하여 샘플과 장비를 보호합니다.
- 비상 종료:오작동 시 전원/가스 차단을 위한 수동 또는 자동 트리거.
- 가스 퍼지:환기 요건에 맞춰 반응 후 유해 가스를 제거합니다.
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디자인 및 사용성
- 투명 쿼츠 튜브:가열 중 샘플을 육안으로 모니터링할 수 있어 방해가 되는 점검의 필요성을 줄여줍니다.
- 모듈식 가열 구역:구성 가능한 길이(205~1200mm)로 다양한 시료 크기와 처리량 요구 사항을 수용합니다.
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운영 모범 사례
- 보호 장비(장갑/고글)와 숙련된 인력이 필수입니다.
- 사용 전 세척은 특히 제약 또는 나노 물질 워크플로우에서 교차 오염을 방지합니다.
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일반적인 애플리케이션
- 분말 가공(예: 소결, 건조), 재료 합성(세라믹) 및 야금 처리.
- 촉매 활성화 또는 탄화와 같은 제어된 분위기 반응을 지원합니다.
이 통합 시스템은 정밀성, 안전성 및 다목적성 간의 균형을 유지하여 맞춤형 대기 조건에서 재현 가능한 열 처리를 필요로 하는 실험실의 초석이 됩니다.
요약 표:
| 구성 요소 | 기능 |
|---|---|
| 진공 펌프 | 제어된 대기를 위한 효율적인 챔버 배기. |
| 디지털 질량 유량 컨트롤러 | 일관된 대기 조건을 위한 정밀한 가스 유량 조절. |
| 배압 레귤레이터 | 가스 플러싱 주기 동안 안정적인 압력을 유지합니다. |
| PID 컨트롤러 | 온도에 민감한 프로세스를 위해 ±1°C의 정밀도를 제공합니다. |
| 과열 보호 | 샘플과 장비를 보호하기 위해 한계를 초과하면 가열을 중지합니다. |
| 투명 석영 튜브 | 가열하는 동안 실시간으로 시료를 관찰할 수 있습니다. |
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