머플로는 특정 온도 요구 사항과 운영상의 필요에 따라 다양한 가열 시스템을 활용합니다. 주요 방법은 전기 저항 가열(고온 애플리케이션에 실리콘 카바이드 또는 실리콘 몰리브덴 막대를 사용)과 가스 연소 시스템입니다. 이러한 용광로는 800°C~1800°C(특수 모델은 3000°C까지)의 온도를 지원하며 정밀도를 위해 프로그래밍 가능한 제어 기능을 갖추고 있습니다. 다음을 포함한 맞춤형 구성 아르곤 분위기 용광로 호환성을 포함한 맞춤형 구성으로 소결 및 금속화와 같은 산업 및 실험실 프로세스에 대한 활용성을 확장합니다.
핵심 포인트 설명:
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1차 가열 시스템
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전기 저항 가열: 정밀한 온도 제어로 실험실 및 산업용으로 널리 사용됩니다.
- 실리콘 카바이드 로드 : 1100°C-1300°C 범위(예: 상자 용광로)에 이상적입니다.
- 실리콘 몰리브덴 로드 : 고급 세라믹 가공에 일반적으로 사용되는 극한의 열(>1600°C)에 적합합니다.
- 가스 연소: 연료 효율이나 빠른 가열이 우선시되는 곳에 사용되지만 정밀한 애플리케이션에서는 덜 일반적입니다.
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전기 저항 가열: 정밀한 온도 제어로 실험실 및 산업용으로 널리 사용됩니다.
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온도별 설계
- 저온(<1000°C) : 니크롬 와이어 요소가 있는 표준 박스 퍼니스.
- High-Temperature (1200°C–1800°C) : 실리콘 카바이드/몰리브덴 요소로 내구성을 보장합니다.
- 초고온(3000°C) : 고급 내화 소재를 사용한 특수 모델입니다.
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작동 특징
- 재현성을 위한 프로그래밍 가능한 가열/냉각 속도(금속화에서 중요).
- 다중 구역 구성을 통한 균일한 온도 분포(±1°C).
- 맞춤형 분위기(예, 아르곤 분위기 용광로 ) 산화에 민감한 공정을 위한 맞춤형 분위기.
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애플리케이션 중심 사용자 지정
- 공간 제약을 위한 수평/수직 방향.
- 브레이징 또는 핵연료 폐기를 위한 진공 또는 기밀 챔버.
- 자재 취급 효율을 위한 틸팅 메커니즘.
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선택 기준
- 에너지원 : 정밀도를 위한 전기, 비용에 민감한 대량 가열을 위한 가스.
- 열 균일성 : 기술 세라믹과 덜 엄격한 유리 성형에 매우 중요합니다.
- 분위기 제어 : 티타늄 분말과 같은 반응성 재료를 가공할 때 필수적입니다.
머플로 발열체의 조용한 빛이 어떻게 재료 과학의 혁신을 가능하게 하는지 생각해 본 적이 있나요? 이러한 시스템은 눈에 보이지 않지만 중요한 산업 수요에 맞춘 엔지니어링의 예시입니다.
요약 표:
| 가열 시스템 | 온도 범위 | 주요 특징 |
|---|---|---|
| 전기 저항(SiC) | 1100°C-1300°C | 정밀한 제어, 박스 퍼니스에 이상적 |
| 전기 저항(MoSi₂) | >1600°C | 고급 세라믹을 위한 극한의 열 |
| 가스 연소 | 다양 | 연료 효율적이고 빠른 가열, 정밀 실험실에서는 흔하지 않음 |
| 니크롬 와이어 | <1000°C | 저온 애플리케이션용 표준 |
| 맞춤형 내화물 | 최대 3000°C | 초고온 공정을 위한 특수 모델 |
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