머플로는 정밀한 온도 제어와 오염 없는 환경을 제공함으로써 전자 재료 가공에서 중요한 역할을 합니다.머플로는 필름 성장, 광학 재료 처리 및 결정 구조와 재료 특성을 세심하게 관리해야 하는 기타 민감한 공정에 사용됩니다.연소실과 가열실이 분리된 설계로 순도를 보장하고 고온 합금 및 세라믹 부품이 유해 가스를 견뎌냅니다.다음과 같은 맞춤형 옵션 진공 머플 퍼니스 구성은 특수 애플리케이션에서의 활용도를 더욱 높여줍니다.
핵심 포인트 설명:
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필름 성장 및 광학 재료 처리의 정밀성
- 머플로는 안정적인 온도와 분위기를 유지하여 필름 증착과 광학 재료 처리를 제어할 수 있습니다.
- 이러한 제어는 반도체 및 광전자 애플리케이션에 필수적인 결정 구조, 성장 속도 및 재료 품질을 개선합니다.
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오염 없는 가열 환경
- 연소실과 가열실이 분리되어 있어 부산물이 민감한 재료를 오염시키는 것을 방지합니다.
- 고온 합금 챔버와 세라믹 머플은 전자 재료 순도에 중요한 부식성 가스에 대한 내구성을 보장합니다.
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민감한 재료를 위한 온도 안정성
- 일관된 온도 제어를 통해 온도에 민감한 전자 부품을 손상시키거나 실험 결과를 변경할 수 있는 온도 변동을 방지할 수 있습니다.
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특수 애플리케이션을 위한 맞춤형 설정
- 수평/수직 모델, 다중 구역 구성 및 진공 시스템(예, 진공 머플 퍼니스 )은 박막 증착이나 어닐링과 같은 다양한 요구 사항을 충족합니다.
- 틸팅/회전 시스템과 특수 제어는 고유한 처리 요구 사항에 맞게 조정됩니다.
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산업 간 관련성
- 전자제품에 초점을 맞추고 있지만 설계 원리(예: 고온 복원력)는 유리 및 제약 산업과도 일치하여 다목적성을 보여줍니다.
이러한 기능을 통합함으로써 머플로는 전자 재료 가공의 엄격한 요구 사항을 해결하여 재현성과 고품질 출력을 보장합니다.이러한 적응성 덕분에 연구 및 산업 환경 모두에서 필수 불가결한 장비입니다.
요약 표:
| 주요 애플리케이션 | 이점 |
|---|---|
| 필름 성장 및 광학 처리 | 정밀한 온도 제어로 결정 구조와 재료 품질을 개선합니다. |
| 오염 없는 가열 | 분리된 챔버가 불순물을 방지하여 재료의 순도를 보장합니다. |
| 온도 안정성 | 일관된 가열로 민감한 전자 부품의 손상을 방지합니다. |
| 맞춤형 구성 | 진공, 다중 구역 및 틸팅 시스템은 특수한 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. |
| 산업 간 다용도성 | 반도체, 광전자, 유리 및 제약에 적합합니다. |
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