CVD & PECVD Furnace
맞춤형 다목적 CVD 튜브 용광로 화학 기상 증착 CVD 장비 기계
품목 번호 : KT-CTF16
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 최대 온도
- 1600℃
- 온도 제어 정확도
- ±1℃
- 진공 압력(고진공 옵션)
- 6x10-5Pa
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킨텍의 첨단 CVD 튜브 퍼니스: 정밀성, 다용도성 및 맞춤형 솔루션
킨텍은 탁월한 R&D 및 자체 제조를 활용하여 다양한 실험실 및 산업 고객에게 고급 고온로 솔루션을 제공합니다. 머플, 튜브, 로터리 퍼니스, 진공 및 대기 퍼니스, 특수 CVD/PECVD/MPCVD 시스템을 포함한 광범위한 제품 라인은 강력한 심층 맞춤화 역량을 바탕으로 합니다. 당사는 고객의 고유한 실험 및 생산 요구 사항을 정확하게 충족하기 위해 최선을 다하고 있습니다.
제품 개요: 고성능 CVD 튜브 용광로
킨텍 화학 기상 증착(CVD) 튜브 퍼니스는 온도, 대기 및 가스 흐름에 대한 정밀한 제어가 요구되는 공정을 위해 세심하게 설계되었습니다. 연구 및 산업 응용 분야에 필수적인 절연, 금속 및 금속 합금 재료를 포함한 다양한 재료의 고품질 박막 증착에 이상적입니다. 당사의 CVD 용광로는 일반적으로 우수한 온도 균일성을 위한 여러 가열 구역, 견고한 진공 시스템, 정확한 전구체 전달을 위한 정교한 질량 유량 가스 제어 스테이션을 갖추고 있습니다. 구성에 따라 이러한 시스템은 최대 1600°C(KT-CTF16-60 모델에서와 같이)의 온도와 6x10의 진공 수준을 달성할 수 있습니다. -5 Pa의 고진공 옵션을 제공합니다.
주요 이점 및 특징
소니의 CVD 튜브 용광로는 중요한 공정에 탁월한 성능과 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다:
- 정밀한 온도 제어 및 균일성: 다중 구역 가열(예: KT-CTF16-60의 경우 3x300mm)과 고급 PID 컨트롤러(±1°C 정확도)는 일관된 필름 품질에 필수적인 안정적이고 균일한 온도 프로파일을 보장합니다.
- 다목적 고온 작동: 고온(예: KT-CTF16-60 모델의 경우 최대 1600°C의 일정한 작업 온도 1550°C)에 도달할 수 있어 다양한 CVD 공정 및 재료 합성에 적합합니다.
- 고급 가스 관리: 다중 채널 질량 흐름 컨트롤러(MFC) 시스템은 높은 선형성(±0.5% F.S.)과 반복성(±0.2% F.S.)으로 반응성 가스를 정밀하게 혼합하고 전달할 수 있습니다.
- 유연한 진공 및 대기 기능: 표준 로터리 베인 펌프(예: 10Pa)에서 고진공 분자 펌프 스테이션(예: 6x10 -5 Pa) 또는 제어된 불활성/반응성 대기에서 작동할 수 있습니다.
- 내구성 있는 구조: 고순도 용광로 튜브(예: Al 2 O 3 ) 및 고품질 챔버 재료(예: 알루미나 다결정질 섬유)를 사용하여 수명과 공정 무결성을 보장합니다.
- 사용자 친화적인 인터페이스: 디지털 PID 컨트롤러 또는 터치스크린 PID 컨트롤러 옵션은 직관적인 작동, 데이터 로깅 및 간편한 설정을 제공합니다.
- 맞춤형 설계: 튜브 직경과 가열 영역 길이부터 가스 채널 및 진공 구성 요소에 이르기까지 고객의 특정 요구 사항에 맞게 맞춤화할 수 있습니다.
- 컴팩트하고 효율적입니다: 성능 저하 없이 공간 효율을 높이도록 설계되어 다양한 실험실 및 산업 환경에 적합합니다.
기술 사양(예: 모델 KT-CTF16-60)
다음 사양은 KT-CTF16-60 모델에 대한 사양입니다. 사양은 고객의 요구 사항에 맞게 맞춤 설정할 수 있습니다.
| 용광로 모델 | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| 최대 온도 | 1600℃ |
| 일정한 작업 온도 | 1550℃ |
| 용광로 튜브 재질 | 고순도 Al2O3 튜브 |
| 용광로 튜브 직경 | 60mm |
| 가열 영역 | 3x300mm |
| 챔버 재질 | 알루미나 다결정 섬유 |
| 발열체 | 실리콘 카바이드 |
| 가열 속도 | 0-10℃/min |
| 열 커플 | S 타입 |
| 온도 컨트롤러 | 디지털 PID 컨트롤러/터치 스크린 PID 컨트롤러 |
| 온도 제어 정확도 | ±1℃ |
| 가스 정밀 제어 장치 | |
| 유량계 | MFC 질량 유량계 |
| 가스 채널 | 3개 채널(사용자 지정 가능) |
| 유량(예시) |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCM CH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500SCCM N2(사용자 지정 가능) |
| 선형성 | ±0.5% F.S. |
| 반복성 | ±0.2% F.S. |
| 파이프 라인 및 밸브 | 스테인리스 스틸 |
| 최대 작동 압력 | 0.45MPa |
| 유량계 컨트롤러 | 디지털 노브 컨트롤러/터치 스크린 컨트롤러 |
| 표준 진공 장치(옵션) | |
| 진공 펌프 | 로터리 베인 진공 펌프 |
| 펌프 유량 | 4L/S |
| 진공 흡입 포트 | KF25 |
| 진공 게이지 | 피라니/저항 실리콘 진공 게이지 |
| 정격 진공 압력 | 10Pa |
| 고진공 장치(옵션) | |
| 진공 펌프 | 로터리 베인 펌프 + 분자 펌프 |
| 펌프 유량 | 4L/S+110L/S |
| 진공 흡입 포트 | KF25 |
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지 |
| 정격 진공 압력 | 6x10-5Pa |
| 위의 사양 및 설정은 사용자 지정 가능 | |
맞춤형 CVD 시스템 구성
킨텍은 고객의 정밀한 연구 또는 생산 요구사항에 맞춰 CVD 퍼니스 시스템을 맞춤 제작하는 것을 전문으로 합니다. 당사의 다목적 맞춤형 설정의 몇 가지 예를 살펴보십시오:
작동 원리
화학 기상 증착(CVD)은 기체 반응물로부터 가열된 기판 위에 고체 물질을 형성하는 다용도 박막 증착 기술입니다. 킨텍 CVD 튜브 퍼니스에서 기판은 고순도 튜브(일반적으로 석영 또는 알루미나) 안에 배치되고 정밀하게 제어된 온도로 가열됩니다. 조심스럽게 계량된 전구체 가스 혼합물이 질량 흐름 제어 시스템을 통해 튜브에 유입됩니다. 이러한 가스는 뜨거운 기판 표면 또는 그 근처에서 반응하거나 분해되어 원하는 박막을 증착합니다. 주요 운영 측면은 다음과 같습니다:
- 고온 환경: 퍼니스는 화학 반응에 필요한 안정적인 고온 영역을 생성합니다.
- 가스 흐름 제어: 질량 유량 제어기(MFC)는 전구체 및 운반 가스의 정확하고 반복 가능한 전달을 보장합니다.
- 진공 또는 제어된 분위기: 진공 시스템은 원치 않는 오염 물질과 부산물을 제거하거나, 증착 화학에 영향을 주기 위해 제어된 분위기(불활성 또는 반응성)를 유지할 수 있습니다. 일부 시스템에서는 저온 증착 또는 증착 속도를 높이기 위해 무선 주파수(RF) 글로우 방전 또는 기타 플라즈마 향상 기술을 사용할 수 있습니다.
- 균일한 필름 성장: 가열 영역과 가스 흐름 역학을 신중하게 설계하면 기판 전체에 걸쳐 균일한 필름 두께와 구성을 촉진할 수 있습니다.
이 공정은 반도체, 태양 전지, 보호 코팅, 나노 소재 및 기타 첨단 전자 및 광학 장치 제조에 널리 사용됩니다.
광범위한 응용 분야
킨텍 멀티존 CVD 튜브 용광로는 다양한 연구 및 산업 분야에서 없어서는 안 될 필수 도구입니다:
- 나노 재료 합성: 나노 와이어, 나노 튜브(예: 탄소 나노 튜브)를 성장시키고 첨단 재료 개발을 위한 나노 필름을 준비하는 데 이상적입니다.
- 고급 코팅 기술: 금속 필름, 세라믹 필름(산화물, 질화물, 탄화물), 복합 필름을 증착하여 경도, 내식성, 전도성 등의 표면 특성을 향상시키는 데 널리 사용됩니다.
- 반도체 및 전자: 집적 회로, 센서 및 기타 전자 부품을 제작할 때 절연, 반도체 및 전도성 층을 증착하는 데 필수적입니다.
- 배터리 재료 가공: 고성능 에너지 저장 장치를 위한 배터리 재료의 건조, 소결 및 표면 수정에 적합합니다.
- 고온 소결 및 어닐링: 재료 치밀화 및 특성 개선을 위한 고온 대기 소결, 대기 환원 및 어닐링 공정에 사용됩니다.
- 진공 및 대기 코팅: 고진공 기능으로 코팅 순도와 품질이 가장 중요한 애플리케이션에 적합합니다.
- 연구 및 개발: 대학 및 과학 연구 기관에서 CVD/CVI(화학 증기 침투) 실험을 비롯한 기초 재료 과학 연구에 광범위하게 사용됩니다.
- 플라즈마 강화 공정: 플라즈마 강화 CVD(PECVD), 플라즈마 세정 및 에칭에 적용할 수 있어 기능적 다양성을 확장할 수 있습니다.
표준 패키지(KT-CTF16-60의 예)
| No. | 설명 | 수량 |
|---|---|---|
| 1 | 온도 조절 기능이 있는 퍼니스 본체 | 1 |
| 2 | 고순도 알루미나 또는 석영 튜브(주문에 따라) | 1 |
| 3 | 포트가 있는 진공 밀봉 플랜지 | 2 세트 |
| 4 | 튜브 써멀 블록/플러그 | 2 |
| 5 | 튜브 써멀 블록 후크 | 1 |
| 6 | 내열 장갑 | 1 쌍 |
| 7 | 정밀 가스 제어 장치(주문에 따라 MFC) | 1세트 |
| 8 | 진공 유닛(주문에 따라 펌프 및 게이지) | 1 세트 |
| 9 | 작동 매뉴얼 | 1 |
옵션 설정 및 사용자 지정
특정 실험 요구 사항을 충족하는 다양한 옵션 기능으로 CVD 시스템을 향상시킬 수 있습니다:
- 튜브 내 가스 감지 및 모니터링 시스템(예: H2, O2 등).
- 독립적인 퍼니스 온도 모니터링 및 데이터 기록 모듈.
- PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트.
- 질량 유량계와 플로트 유량계를 위한 다양한 범위를 포함한 다양한 가스 공급 유량 제어 옵션.
- 다목적의 작업자 친화적인 기능(예: 프로그래밍 가능한 램프, 데이터 로깅)을 갖춘 고급 터치 스크린 온도 컨트롤러.
- 베인 진공 펌프, 분자 펌프 또는 확산 펌프와 같은 옵션을 통합한 업그레이드된 고진공 펌프 스테이션 설정.
- 액체/고체 전구체 전달 시스템(예: 버블러, 기화기).
- 배기가스 저감 시스템.
CVD 솔루션을 위한 킨텍의 파트너십
최첨단 CVD 튜브 퍼니스로 연구 또는 산업 공정을 개선할 준비가 되셨나요? 킨텍 팀은 고온 기술 및 맞춤화에 대한 전문성을 바탕으로 고객의 응용 분야 요구사항에 완벽하게 부합하는 시스템을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다.
지금 바로 문의하세요 에 문의하여 구체적인 요구 사항을 논의하고 맞춤형 옵션을 살펴보거나 자세한 견적을 요청하세요. 재료 증착 작업에서 탁월한 결과를 얻을 수 있도록 도와드리겠습니다.
FAQ
튜브 퍼니스는 무엇이며 어떻게 작동하나요?
멀티존 튜브 퍼니스의 주요 용도는 무엇인가요?
CVD 장비의 원리는 무엇인가요?
수직 튜브 퍼니스가 무엇인가요?
진공 유도로란 무엇인가요?
진공로의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
PECVD 장비는 어떤 용도로 사용되나요?
대기로는 어떤 용도로 사용되나요?
튜브 퍼니스의 주요 용도는 무엇인가요?
다중 구역 튜브 용광로의 주요 특징은 무엇인가요?
CVD 장비를 사용하면 어떤 이점이 있을까요?
수직 튜브 용광로는 어떤 용도로 사용되나요?
진공 유도로의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
진공 용광로의 주요 특징은 무엇인가요?
PECVD 장비의 주요 유형은 무엇인가요?
분위기 용광로의 주요 특징은 무엇인가요?
튜브 퍼니스 사용의 장점은 무엇인가요?
다중 구역 튜브 퍼니스는 어떻게 작동하나요?
CVD 장비의 용도는 무엇인가요?
수직 튜브 퍼니스의 장점은 무엇인가요?
진공 유도로는 어떻게 작동하나요?
진공로는 어떻게 작동하나요?
PECVD 장비는 어떻게 작동하나요?
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어떤 유형의 튜브 퍼니스를 사용할 수 있나요?
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CVD 장비의 주요 특징은 무엇입니까?
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수직 튜브 용광로는 어떤 온도 범위를 달성할 수 있나요?
진공 유도로에서 가공할 수 있는 재료에는 어떤 것이 있나요?
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수직 튜브 퍼니스는 맞춤화가 가능한가요?
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