MPCVD

915MHz MPCVD 다이아몬드 기계 마이크로파 플라즈마 화학 기상 증착 시스템 원자로

품목 번호 : MP-CVD-101

가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의

출력 전력: 3-75kW 연속 조절 가능
샘플 스테이지 직경: ≥200mm
작동 주파수: 915±15MHz

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킨텍 MPCVD 다이아몬드 기계: 다이아몬드 합성의 혁명

킨텍 MPCVD 다이아몬드 기계는 마이크로웨이브 플라즈마 화학 기상 증착법(MPCVD)을 활용하여 전례 없는 속도와 정밀도로 고품질 다이아몬드를 합성합니다. 이 첨단 기술을 통해 기존 방식에 비해 더 빠른 결정 성장, 생산 능력 증가, 다이아몬드 품질 향상을 실현할 수 있습니다.

시각적 개요 및 주요 구성 요소

MPCVD 세부 정보

킨텍과 함께 우수한 다이아몬드 생산 실현

당사의 MPCVD 다이아몬드 기계는 다이아몬드 합성 요구 사항에 상당한 이점을 제공합니다:

결정 성장 가속화: 기존 방법보다 10~100배 빠른 성장 속도를 달성하여 생산 효율성을 크게 향상시킵니다.
생산 능력 증가: 한 번의 실행으로 더 많은 양의 다이아몬드를 합성하여 생산량을 극대화할 수 있습니다.
탁월한 다이아몬드 품질: 천연 다이아몬드보다 경도와 인성이 높은 다이아몬드를 생산하여 뛰어난 내구성과 성능을 보장합니다.
다양한 색상 옵션: 화이트, 옐로우, 핑크, 블루 등 다양한 색상의 다이아몬드를 제작하여 다양한 시장 수요와 미적 선호도를 충족할 수 있습니다.
탁월한 순도: 천연 타입 II 다이아몬드보다 더 높은 순도 수준을 달성하여 뛰어난 광학적 특성과 고급 애플리케이션에 적합합니다.
고객의 니즈에 맞춘 맞춤 제작: 다양한 스타일 맞춤화의 이점을 누려보세요. 특정 시장 요구 사항과 고유한 실험 설정에 맞게 디자인을 조정할 수 있습니다.

반짝임 뒤에 숨겨진 과학: 고급 MPCVD 기술

마이크로웨이브 플라즈마 화학 기상 증착(MPCVD)은 연속 마이크로웨이브 소스가 반응성이 높은 플라즈마를 생성하고 유지하는 정교한 공정입니다. 이 플라즈마는 반응하는 화학 물질(일반적으로 메탄과 수소)과 필수 촉매로 구성되며, 이 플라즈마는 다이아몬드 시드 기판 위에 새로운 다이아몬드 층을 배양하는 데 사용됩니다.

킨텍 MPCVD 다이아몬드 장비는 마이크로파 출력과 반응 온도를 정밀하게 제어할 수 있어 다른 CVD 방법에서 발생하는 일반적인 문제를 효과적으로 제거합니다. 반응 챔버 설계와 공정 파라미터를 최적화함으로써 고품질의 대형 단결정 다이아몬드를 일관되게 생산하는 데 중요한 요소인 안정적인 플라즈마 방전을 달성합니다.

산업 전반에 걸친 다양한 응용 분야

뛰어난 경도, 강성, 높은 열전도율, 낮은 열팽창, 방사선 경도 및 화학적 불활성을 포함하여 당사의 MPCVD 장비로 생산되는 다이아몬드의 고유한 특성 덕분에 다양한 분야에서 매우 유용하게 사용됩니다:

보석 산업: 고품질의 대형 다이아몬드 원석을 재배하기 위한 주요 장비.
첨단 재료 및 반도체: 반도체 산업을 위한 대형 다이아몬드 기판과 고성능 다이아몬드 절삭 또는 드릴링 공구 등 다양한 용도의 다이아몬드 필름을 생산합니다.
산업용 공구: 절삭 공구, 드릴 비트 및 극한의 경도와 내구성이 가장 중요한 기타 산업용 공구를 위한 다이아몬드 코팅 개발.
바이오메디컬 분야: 인공 관절 및 치과 임플란트와 같은 의료용 임플란트를 위한 생체 적합성과 내구성이 뛰어난 다이아몬드 코팅을 개발합니다.
광전자: 높은 열전도율과 낮은 열팽창이 중요한 고출력 레이저, 검출기 및 기타 광전자 장치용 다이아몬드 윈도우 및 기판 제조.

기술 사양

마이크로파 시스템(옵션 전원 공급 장치에 따라 다름)	작동 주파수: 915±15MHz 출력 전력: 3-75kW 연속 조절 가능 냉각수 유량:120분/분 시스템 정재파 계수:VSWR≤1.5 마이크로파 누출:
진공 시스템 및 반응 챔버	누설률 최종 압력은 0.7Pa 미만입니다(이 기계는 수입 피라니 진공 게이지와 함께 제공됨). 12시간 동안 압력을 유지한 후 캐비티의 압력 상승은 50Pa를 초과하지 않아야 합니다. 반응 챔버 작동 모드: TM021 또는 TM023 모드 캐비티 유형 : 냉각 된 원통형 캐비티, 최대 75KW, 고순도, 스톤 링 씰까지 전력을 전달할 수 있습니다. 입구 방법: 상단 스프링클러 헤드 입구. 관측 온도 측정 창: 8 개의 관찰 구멍, 수평으로 고르게 분포. 샘플링 포트 : 하단 리프팅 샘플링 포트
샘플 홀더 시스템	샘플 스테이지 직경 ≥200mm, 단결정 유효 사용 면적 ≥130mm, 다결정의 유효 사용 면적은 ≥200mm입니다. 기판 플랫폼 수냉식 샌드위치 구조, 수직 직선 위아래.
가스 시스템	풀 메탈 용접 가스 플레이트 5-7 가스 라인 장비의 모든 내부 공기 회로는 용접 또는 VCR 커넥터를 사용합니다.
시스템 냉각	3방향 수냉식, 온도 및 유량 실시간 모니터링. 시스템 냉각수 유량 120L/min, 냉각수 압력
온도 측정 방법	외부 적외선 온도계, 온도 범위 300~1400 M

SL901A 장비 주요 부품 목록

일련 번호	모듈 이름	설명
1	마이크로파 전원 공급 장치	국내 표준 마그네트론: 잉지에 전기 / 전원 공급 장치 국내 고체 소스 구별: 왓슨 (+30,000) 수입 마그네트론: MKS/목가적 (+100, 000)
2	도파관, 3핀, 모드 변환기, 상부 공진기	자체 제작
3	진공 반응 챔버(상부 챔버, 하부 챔버, 커넥터)	자체 제작
4	적외선 온도계, 광학 변위 부품, 브래킷	적외선 온도계, 광학 변위 부품, 후지 골드 지멘스 + 슈나이더 브래킷
5	수냉식 테이블 모션 구성품(실린더, 공작물 등)
6	세라믹 박막 진공 게이지, 피라니 진공 게이지	Inficon
7	진공 밸브 부품(초고진공 게이트 밸브, 정밀 공압 밸브*2, 전자기 진공 충전 차동 밸브)	후지킨 + 중케 + 하이마트
8	진공 펌프 및 연결 파이프 피팅, 티, KF25 벨로우즈*2, 어댑터	펌프 플라이오버 16L
9	금속 마이크로파 밀봉 링2; 금속 진공 밀봉 링1; 석영 플레이트	석영: 상하이 페이리화반도체 등급 고순도 석영
10	순환수 구성품(조인트, 다이버터 블록, 유량 감지기)	일본 SMC/CKD
11	공압 부품(CKD 필터, 에어택 다방향 솔레노이드 밸브, 파이프 피팅 및 어댑터)
12	가스 커넥터, EP 가스 파이프, VCR 커넥터, 필터 0.0023μm 1, 필터 10μm 2	후지킨
13	기계 케이스, 스테인리스 스틸 테이블, 범용 바퀴, 발, 브래킷 고정 나사 등	맞춤형 가공
14	가스 유량계*6(압력 제어 장치 1개 포함)	표준 7스타, 옵션 후지 골드(+34,000) / 알리샤트(42,000)
15	가스 플레이트 가공(5방향 가스, 필터5, 공압 밸브5, 수동 밸브*6, 파이프라인 용접)	후지 골드
16	PLC 자동 제어	지멘스 + 슈나이더
17	몰리브덴 테이블

고급 재료 요구사항에 대한 킨텍과의 파트너쉽

탁월한 R&D 및 자체 제조를 활용하는 킨텍은 MPCVD 다이아몬드 기계와 같은 고급 고온 용광로 솔루션을 전문으로 합니다. 당사는 이 첨단 다이아몬드 합성 장비를 포함한 당사의 시스템이 고객의 고유한 실험 및 생산 요구 사항을 정확하게 충족하도록 보장하는 강력한 심층 맞춤화 역량에 자부심을 가지고 있습니다.

다이아몬드 합성의 수준을 높일 준비가 되셨나요? 킨텍의 MPCVD 다이아몬드 기계는 탁월한 정밀도와 효율성을 제공합니다. 지금 바로 연락하여 귀사의 구체적인 요구 사항을 논의하고 당사의 기술이 귀사의 운영을 어떻게 향상시킬 수 있는지 알아보십시오. 아래 양식을 작성하거나 여기를 클릭하여 시작하고 견적 또는 상담을 요청하세요!

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FAQ

MPCVD 장비의 원리는 무엇인가요?

MPCVD(마이크로웨이브 플라즈마 화학 기상 증착) 장비는 마이크로웨이브 발생기를 사용하여 가스 혼합물을 이온화하여 플라즈마를 생성하는 방식으로 작동합니다. 이 플라즈마는 저압의 반응 챔버에 보관되며, 기판은 기판 홀더에 의해 제자리에 고정됩니다. 주요 구성 요소에는 마이크로파 발생기, 플라즈마 챔버, 가스 전달 시스템, 기판 홀더 및 진공 시스템이 포함됩니다.

MPCVD 장비를 사용하면 어떤 이점이 있을까요?

MPCVD 장비는 핫 와이어(비극성 방전)로 인한 오염을 제거하고, 여러 가스를 사용할 수 있으며, 반응 온도를 안정적으로 제어하고, 대면적의 안정적인 방전 플라즈마를 가능하게 하며, 필름 두께, 순도 및 결정 품질을 정밀하게 제어할 수 있는 등 여러 가지 장점을 제공합니다. 또한 대면적 다이아몬드 필름을 생산하고 안정적인 조건을 보장하며 일관된 시료 품질을 유지하며 비용 효율적입니다.

MPCVD 장비의 주요 응용 분야는 무엇일까요?

MPCVD 장비는 주로 다이아몬드 필름 및 기타 첨단 소재를 포함한 고순도 실험실 재배 다이아몬드 합성에 사용됩니다. 정밀한 제어로 고품질의 균일한 필름을 생산할 수 있기 때문에 반도체 연구, 광학 및 MEMS(미세 전자 기계 시스템)로 응용 분야가 확장되고 있습니다.

MPCVD 장비의 주요 구성 요소는 무엇인가요?

MPCVD 장비의 주요 구성 요소로는 마이크로웨이브 발생기(플라즈마 생성), 반응 챔버(저압에서 기판과 가스 혼합물을 수용), 기판 홀더(증착 중에 기판을 고정), 가스 전달 시스템(가스 혼합물 도입 및 제어), 진공 시스템(필요한 저압 환경 유지)이 있습니다.

MPCVD 장비는 어떻게 에너지 효율성을 향상시킬 수 있을까요?

MPCVD 장비는 전극이 없는 공정을 통해 에너지 효율을 향상시켜 오염과 에너지 손실을 줄입니다. 마이크로웨이브 플라즈마 생성은 매우 효율적이며, 시스템의 모듈식 확장형 설계로 다양한 산업 응용 분야에서 에너지 사용을 최적화할 수 있습니다.

다이아몬드 성장에 MPCVD가 선호되는 이유는 무엇인가요?

MPCVD는 하전 입자와 반응성 종의 밀도가 높고, 낮은 압력에서 대면적 다이아몬드 필름을 증착할 수 있으며, 성장된 필름의 균질성을 보장하기 때문에 다이아몬드 성장에 선호됩니다. 이러한 특징 덕분에 특성을 정밀하게 제어할 수 있는 고순도, 고품질의 다이아몬드를 생산할 수 있습니다.

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