지식 DM 타입 탄화규소 발열체가 고온 정확도에 적합한 이유는 무엇일까요?중요한 애플리케이션을 위한 정밀 가열
작성자 아바타

기술팀 · Kintek Furnace

업데이트됨 2 days ago

DM 타입 탄화규소 발열체가 고온 정확도에 적합한 이유는 무엇일까요?중요한 애플리케이션을 위한 정밀 가열

실리콘 카바이드(SiC) 발열체, 특히 DM 유형은 고유한 재료 특성, 구조 설계 및 열 성능으로 인해 높은 온도 정확도를 위해 설계되었습니다.이러한 발열체는 다음과 같이 정밀한 온도 제어가 요구되는 환경에서 탁월한 성능을 발휘합니다. 대기 레토르트 용광로 에서는 작은 변동에도 공정 무결성이 손상될 수 있습니다.끝이 두꺼운 중공 튜브형 설계로 균일한 열 분포와 열 응력에 대한 저항성을 보장하며, 탄화규소는 극한 온도(1200~1400°C)에서의 고유한 안정성으로 세라믹, 항공우주 및 반도체 제조와 같은 산업에 이상적입니다.

핵심 포인트 설명:

  1. 실리콘 카바이드의 재료 특성

    • 높은 열 안정성:SiC는 최대 1400°C의 온도에서 3.2g/cm³의 밀도와 9.5 Mohs의 경도로 구조적 무결성을 유지하며 열에 의한 변형에 저항합니다.
    • 효율적인 열 전달:0.17kcal/kg의 비열로 동적 온도 조절에 중요한 빠른 열 반응이 가능합니다.
    • 산화 저항:검은색의 고밀도 SiC 표면은 산화 환경에서 성능 저하를 최소화하여 열악한 환경에서도 긴 수명을 보장합니다.
  2. 끝이 두꺼워진 중공 튜브형 디자인

    • 균일한 가열:중공 구조로 소자 전체에 열을 고르게 분산시켜 세라믹 소결이나 금속 열처리와 같은 애플리케이션에서 중요한 핫스팟을 줄여줍니다.
    • 기계적 내구성:두꺼운 끝단이 연결 지점을 보강하여 열팽창/수축 주기로 인한 균열을 방지합니다.이 설계는 H 타입과 공유되지만 DM 타입은 빠른 열 순환보다 정밀도를 우선시합니다.
  3. 온도 제어에 최적화

    • 낮은 열 지연:관형 구조와 SiC의 열 전도성 덕분에 반도체 도핑과 같은 공정에 필수적인 목표 온도에서 빠르게 안정화할 수 있습니다.
    • 대형 용광로에서의 일관성:대형 퍼니스의 공간 균일성을 위해 설계된 SC 타입과 달리 축 방향 온도 정확도에 중점을 둔 DM 타입은 다음과 같은 소형 고정밀 시스템에 적합합니다. 대기 레토르트 용광로 .
  4. 산업 애플리케이션

    • 까다로운 환경:항공우주 부품 테스트 및 유리 템퍼링에 사용되며 ±5°C 허용 오차가 요구되는 경우가 많습니다.
    • 호환성:SiC의 화학적 비활성성 덕분에 불활성 또는 반응성 대기에서도 원활하게 작동합니다.

견고한 재료 과학과 지능형 설계를 결합한 DM 유형 SiC 발열체는 고정밀 열 공정의 미묘한 요구 사항을 해결하여 가장 중요한 곳에서 신뢰성을 보장합니다.

요약 표:

기능 이점
높은 열 안정성 최대 1400°C까지 무결성 유지, 극한 환경에 이상적
중공 튜브형 설계 균일한 가열을 보장하고 핫스팟을 줄입니다.
두꺼워진 끝단 기계적 내구성 향상 및 균열 방지
낮은 열 지연 정밀 공정을 위한 신속한 온도 안정화 지원
산화 저항 가혹한 산화 환경에서 수명을 연장합니다.

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